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新型光敏劑及光熱之磁力攪拌器使用

返回列表 來源:未知 發(fā)布日期:2025-01-13 09:38【

    人們也在努力開發(fā)對近紅外 (NIR)光反應良好的光敏劑,以實現(xiàn)更深的組織穿 透并最大限度地減少對健康組織的損害 。 因此 設計了一種基于雙吡咯酮熒光染料新型光敏劑,由于雙吡咯酮溶解性太差,引入了正己烷增加該光敏 劑的溶解性。SHZ - D,鞏義市予華儀 器有限責任公司;集熱式恒溫加熱磁力攪拌器, DF - 101S,鞏義市予華儀器有限責任公司;鼓風干 燥箱,DHG - 9070C,杭州藍天化驗儀器廠;熒光分 光光度計,F97XP,上海菱光技術有限公司。


    為了評估光敏劑的光物理性質,通過紫外 - 可 見吸收和熒光光譜研究了 ZT - 3 光敏劑的吸收光 譜與發(fā)射光譜。 發(fā)現(xiàn)在 DCM 中,吸收與發(fā)射最高。 其吸收波長為 644 nm,發(fā)射波長為 704 nm,斯托克 斯位移 60 nm,該光敏劑具有較大的斯托克斯位移, 總之,較大的斯托克斯位移具有減少背景干擾的能 力,為以后可能用在熒光成像上面提供了較好的技 術支持。




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